日本三丰mitutoyo显微镜镜头VMU-V近红外显微物镜378-506半导体电路显微镜头

设备组合用显微镜单元VMU物镜(紫外、近紫外、可见、近红外区)
特点：
·紧凑、轻巧的相机观察专用显微镜(适用于金属、树脂、印刷表面、微小运动物体等各种观察对象。)
·适用于使用YAG激光(近红外、可见、近紫外、紫外)的微细加工※1(半导体电路的切割、修整、修复、打标、薄膜(绝缘膜)的去除和加工、液晶彩色滤光片等的修复等。)
·适用于红外光学系统※2
·反射照明光学系统标配带孔径光阑远心照明(非常适合需要均匀照明的图像处理。可用于尺寸测量、形状检查、定位等。)
·VMU-LB和VMU-L4B强化了显微镜本体的刚性和综合性能(与以往产品相比)
·除标准规格外，还可按照需求设计制作双相机、双倍率(低倍率、高倍率)等产品
※1：不保证激光振荡器配备系统的综合性能和安全性。
※2：另需红外光源和红外摄像机等。